化學(xué)鍍制備納米間隙電極的方法
選擇性化學(xué)鍍制備納米間隙電極的方法是一種制備納米級電子器件的方法。
第一步：通過一般的光刻技術(shù)加工出所需的雙電極結(jié)構(gòu)的器件，其中電極可為任意金屬材料，基底為硅基材料；
第二步：通過分子組裝技術(shù)獲得暴露的硅基材料表面的光敏薄層，通過浸涂工藝涂上一層化學(xué)鍍引發(fā)劑層，通過顯影工藝將已曝光的白組裝光敏層去除，只留下金屬材料表面的引發(fā)劑層；
第三步：在調(diào)制引發(fā)劑層圖形的基礎(chǔ)上進(jìn)行化學(xué)鍍，獲得納米尺度間隙的雙電極結(jié)構(gòu)器件。
